Система для получения покрытия методом погружения

Установка для нанесения покрытий методом погружения (окунания) с несколькими сосудами Xdip-MV1

  • Автоматизированная система управления на дисплее
  • Максимальное количество сосудов: 8
  • Скорость спуска и подъема: 0.5-450 мм/мин
  • Кол-во программ: 20 шт

Производитель APEX

Описание

Данный прибор является недорогим настольным прибором с несколькими сосудами, а так же неограниченным временем выдержки и повторением рабочих операций. Установка может использоваться для решения следующих задач:

  • Нанесение покрытий на твердые подложки, мембраны и другие носители
  • Нанесение покрытий золь-гель методом
  • Создание самособирающихся структур
  • Получение мультислоев

Технические характеристики

Характеристики Модель Xdip-MV1 Модель Xdip-MV1H
Автоматизированная система управления На дисплее
Максимальное количество сосудов 8
Скорость спуска и подъема 0.5-450 мм/мин
Высота спуска и подъема 150 мм
Максимальная высота нанесенного покрытия 100 мм
Время выдержки Неограниченно
Кол-во циклов повторений рабочих операций Неограниченно
Кол-во программ (с возможностью их редактирования) 20 шт
Режим проведения монтажа/демонтажа подложки на держателе +
Опция регулирования свободного промежутка +
Опция калибровки +
Локальный контроль температуры (блок нагрева) - До 160˚С

Области применения

  • Полупроводники
  • Медицина
  • Оптика
  • Прикладная химия
  • Нанотехнологии

Для закрепления покрытий на подложке можно дополнительно использовать УФ отвердители.

Похожее оборудованиеВ каталог
  • Количество УФ ламп 2 шт.
  • Длина волны излучения 365 нм
  • Энергопотребление 70 Вт на лампу
  • Диаметр поворотного столика (тефлон) 200 мм
  • Количество УФ ламп 2 шт.
  • Длина волны излучения 254 нм
  • Энергопотребление 8 Вт на лампу
  • Диаметр поворотного столика (тефлон) 200 мм
  • Автоматизированная система управления на дисплее, так же возможно управление с ПК
  • Скорость спуска и подъема: 0.5-450 мм/мин
  • Кол-во программ: 15 шт. или неограниченное количество
  • Продувка инертным газом
  • Локальный контроль температуры
  • Система дозирования: два канала с независимым контролем
  • Количество оборотов коллектора: 200 – 5500 об/мин
  • Скорость потока: 0.1 мкл/мин – 3 мл/мин
  • Два барьера для сжатия
  • Материал всех смачиваемых и контактных частей: тефлон высокой чистоты (PTFE)
  • Объем ванны: 363 мл
  • Размер зоны погружения: 105 мм (Д) x 40 мм (Ш) x 60 мм(В)
  • Эффективное и быстрое нанесение покрытий
  • Адаптируемая система для исследований, промышленности и медобслуживания
  • Компактная и передвижная система портативного типа
  • Роторный вакуум-насос для быстрого создания низкого вакуума
  • Охлаждаемая ловушка, установленная для защиты вакуумного насоса, улавливающая избыток парилена
  • Контроль температуры, установленный для контроля скорости испарения парилена