Сканирующие интерферометры белого света

Компания GLtech представляет широкую линейку сканирующих 3D интерферометров белого света, начиная от самых простых систем академического уровня и заканчивая высокоточными моделями премиум-класса с высокой степенью автоматизации. С помощью данных интерферометров Вы сможете получать различные данные о топографии поверхности исследуемых образцов (профиль, шероховатость, размеры микро- и наноструктур, измерение углов, высот, формы и т.д.), а также строить трехмерные изображения с возможностью сшивания при анализе крупных объектов.

Вид каталога:
  • Разрешение по высоте 0.1 нм
  • Вертикальное разрешение: VSI/VEI < 0.5 нм, VPI < 0.1 нм
  • Неразрушающий контроль и отсутствие пробоподготовки
  • Возможность измерения различных типов образцов: прозрачные, полупрозрачные, непрозрачные и т.п.

Сканирующая интерферометрия находится в одном ряду с технологией атомно-силовой микроскопии: оба метода позволяют измерять тончайшие структуры с вертикальным разрешением более 0.1 нм, а также занимают первое место среди аналогичных методов по возможности измерения широких областей с высокой скоростью сканирования.

Сравнение методов измерения трехмерных профилометров

Метод Разрешение по высоте Преимущества Недостатки
Оптическая триангуляция < 1 мкм
  • Простота использования
  • Широкий диапазон сканирования
  • Большое рабочее расстояние
  • Низкая воспроизводимость и точность измерений
  • Измерение зеркальных и прозрачных объектов невозможно
  • Низкое горизонтальное разрешение
  • Сложность измерения шероховатости
Лазерная конфокальная микроскопия < 10 нм
  • Возможность получения цветного изображения
  • Простота получения двумерного изображения
  • Измерения с большим увеличением
  • Разрешение зависит от степени увеличения
  • Ограниченный срок службы лазера
  • Ограничение на измерение очень крупных образцов
Интерферометрия VSI/VEI < 0.5 нм
  • Вертикальное разрешение не зависит от увеличения
  • Превосходное разрешение по высоте
  • Быстрота измерения поверхности
  • Высокая точность измерений
  • Сложность использования объективов с увеличением более 100X
  • Сложность получения двумерного изображения поверхности
VPI < 0.1 нм
  • Вертикальное разрешение не зависит от увеличения
  • Превосходное разрешение по высоте
  • В основном используется для измерения отражающих поверхностей
  • Высокая скорость измерений
  • Невозможно измерять структуру с размерами более 300 нм
Атомно-силовая микроскопия < 0.01 нм
  • Разрешение по всем осям составляет доли ангстрем
  • Возможность измерения тонких наноструктур
  • Измерение различных свойств поверхности
  • Чем выше скорость сканирования, тем хуже разрешение
  • Сильное влияние окружающей среды на результаты измерений