Ионно-лучевое ассистирование

Ионное ассистирование в отличие от ионно-лучевой очистки проводится не только перед, но и во время процессов нанесения покрытий методами испарения и распыления в вакууме. Энергия ионов при этом существенно ниже и обычно лежит в диапазоне 30 – 300 эВ.

Вид каталога:
  • Высоковакуумный затвор между камер
  • Шлюзовая камера с системой вращения
  • «Сухой» механический насос
  • Откачка камер в автоматическом режиме
  • Возможность использования различных технологических устройств и подложкодержателей
  • Конфигурируется как для исследований, так для пилотного, мелкосерийного производства
  • Оборудование идеально подходит для наненсения драгоценных металлов
  • Возможность встраивания в чистую комнату
  • Наличие шлюза (опция)
  • Возможность использования различных технологических устройств и подложкодержателей
  • Конфигурируется как для исследований, так для пилотного, мелкосерийного производства
  • Оборудование идеально подходит для наненсения драгоценных металлов
  • Возможность встраивания в чистую комнату
  • Наличие шлюза (опция)
  • Проверенная временем конструкция, отработанные технические решения и современная компелектация
  • Идеально подходит для гибкого мелкосерийного производства
  • Хорошая производительность
  • Ионно-лучевое асситирование
  • Возможна модификация оборудования
  • Высокопроизводительное решение для нанесения оптических покрытий
  • Хорошая производительность оборудования
  • Ионно-лучевое асситировние

Наиболее широкое применение технология ионно-лучевого ассистирования нашла в сочетании с электронно-лучевым испарением и позволила улучшить такие параметры, как адгезия и плотность осаждаемых покрытий. Кроме того, так как при испарении оксидных материалов формируются пленки с недостатком кислорода, то проведение процесса с ассистированием ионами кислорода позволяет контролировать стехиометрию формируемых пленочных структур и в ряде случаев увеличить коэффициент преломления оксидных покрытий. При этом существенно уменьшаются поглощение, рассеяние и шероховатость пленок, а твердость и стойкость к истиранию повышаются.

Компанией Изовак разработаны ионные источники серии “Стрелок-2" для проведения операций ионного ассистирования, которые могут поставляться Заказчику как в составе вакуумных установок типа ORTUS, так и в качестве самостоятельного изделия.