Каталог оборудования
Спектральные
приборы
приборы
- Спектральные системы DongWoo Optron
- CCD Спектрометры BWTek
- Рамановские спектрометры (комбинационного рассеяния) BWTek
- Рамановские системы ProTrusTech
- Спектрометры McPherson
- ТГц-Рамановские спектроскопические системы
- Сверхбыстрые спектрометры и автокорреляторы
- Спектральное измерение освещенности
- Эллипсометры
- Фотометры и спектрофотометры
- Флуориметрия
- Частотные гребенки Menlo Systems
- LIBS спектрометры
- Измерители толщины оптических материалов
- Цифровые камеры
- Фотодетекторы
- LED источники освещения
- Монохроматоры / Спектрографы / Спектрометры SOL Instruments
Спектральные
комплексы
комплексы
Микроскопы
- Атомно силовые микроскопы
- Конфокальные микроскопы
- Сканирующие туннельные микроскопы
- Сканирующие интерферометры белого света
- Двухфотонные лазерные сканирующие микроскопы
- Сканирующие (растровые) электронные микроскопы
- Конфокальные рамановские и плазмонные системы картографирования
- Температурная микроскопия
Общелабораторное
оборудование
оборудование
- Химические насосы
- Приборы вакуумного фильтрования
- Вакуумные аспирационные системы
- Лабораторные компрессоры
- Ультразвуковые ванны
- Мельницы сверхтонкого помола (наномельницы)
- Разделение и подача образцов
- Счетчики частиц
- Корундовые изделия
- Высокотемпературные лабораторные печи
- Термостаты лабораторные
- Лабораторные бани
- Вакуумные ловушки
- Калибровочные ванны
- Регуляторы массового расхода для газов
- Регуляторы массового расхода для жидкостей
- Колориметры для анализа воды
- Весы
Лазеры
-
- Пикосекундные Nd:YAG лазеры EKSPLA
- Наносекундные Nd:YAG лазеры с модуляцией добротности EKSPLA
- Наносекундные перестраиваемые лазерные системы EKSPLA
- Пикосекундные перестраиваемые лазерные системы EKSPLA
- Фемтосекундные перестраиваемые лазерные системы EKSPLA
- Наносекундные DPSS лазеры с пассивной модуляцией добротности CryLaS
- Непрерывные DPSS УФ лазеры CryLaS
- Непрерывные (CW) лазеры Integrated Optics
- Наносекундные лазеры Integrated Optics
- Лазеры BWTek
- Лазеры Menlo Systems GmbH
- Профилометры лазерного излучения
- Наносекундные лазеры для микрообработки высокой мощности EdgeWave
-
- Фемтосекундные Yb KGW лазеры PHAROS Light Conversion
- ОПУ для лазеров с длиной волны
800 ± 30 нм - ОПУ для лазеров с длиной волны
1030 ± 30 нм - Наносекундные Nd:YAG/Nd:YLF лазеры с модуляцией добротности Quantum Light Instruments
- Установки для лазерной микрообработки Elas
- Оптоэлектроника
- Волоконные лазеры EKSPLA
- Высокоэнергетические лазерные системы
- Лазеры для микрообработки EKSPLA
- Смесители длин волн
- OPCPA системы высокой пиковой мощности
- Приборы для контроля лазерного излучения
- Лазеры SOL Instruments
Анализ
микроструктуры
материалов
микроструктуры
материалов
Оборудование для
пробоподготовки
пробоподготовки
Системы виброзащиты и оптические столы
Реакторные системы
Установки нанесения покрытий
- Нанесение покрытия методом центрифугирования
- Установки для получения пленок методом Ленгмюра-Блоджетт
- Получение покрытий методом погружения (окунания)
- Установки ультразвукового распыления
- Ионно-лучевое ассистирование
- Ионно-лучевая очистка
- Ионно-лучевое напыление
- Установки магнетронного распыления
- Получение мембран из растворов полимеров методом инверсии фаз
- Установки электроспиннинга
- Установки для нанесения париленовых покрытий
Специализированное
исследовательское
оборудование
исследовательское
оборудование
- ЭПР спектрометры
- ЯМР спектрометры
- Рентгеновские дифрактометры
- Измерители электрических свойств полупроводников
- Системы люминесцентного датирования и портативные дозиметры
- Измерение краевого угла смачивания (контактного угла)
- УФ отвердители
- Приборы для определения степени отверждения
- Анализаторы магнитных наночастиц
- Микроустановки зондового контроля