Каталог оборудования
Спектральные
приборы
приборы
- Монохроматоры / Спектрографы / Спектрометры SOL Instruments
- CCD Спектрометры BWTek
- Спектрометры McPherson
- Рамановские спектрометры (комбинационного рассеяния)
- ТГц-Рамановские спектроскопические системы
- Сверхбыстрые спектрометры и автокорреляторы
- Спектральное измерение освещенности
- Эллипсометры
- Фотометры и спектрофотометры
- Флуориметрия
- Частотные гребенки Menlo Systems
- LIBS спектрометры
- Измерители толщины оптических материалов
- Цифровые камеры
- Фотодетекторы
Спектральные
комплексы
комплексы
Микроскопы
Лазеры
-
- Лазеры SOL Instruments
- Лазеры BWTek
- Лазеры Menlo Systems GmbH
- Пикосекундные Nd:YAG лазеры EKSPLA
- Наносекундные Nd:YAG лазеры с модуляцией добротности EKSPLA
- Наносекундные перестраиваемые лазерные системы EKSPLA
- Пикосекундные перестраиваемые лазерные системы EKSPLA
- Фемтосекундные перестраиваемые лазерные системы EKSPLA
- Непрерывные (CW) лазеры Integrated Optics
- Наносекундные лазеры Integrated Optics
- Приборы для контроля лазерного излучения
- Наносекундные Nd:YAG/Nd:YLF лазеры с модуляцией добротности
-
- Фемтосекундные Yb KGW лазеры PHAROS Light Conversion
- ОПУ для лазеров с длиной волны
800 ± 30 нм - ОПУ для лазеров с длиной волны
1030 ± 30 нм - Установки для лазерной микрообработки Elas
- Оптоэлектроника
- Волоконные лазеры EKSPLA
- Высокоэнергетические лазерные системы
- Лазеры для микрообработки EKSPLA
- Смесители длин волн
- OPCPA системы высокой пиковой мощности
Анализ
микроструктуры
материалов
микроструктуры
материалов
Оборудование для
пробоподготовки
пробоподготовки
Системы виброзащиты и оптические столы
Реакторные системы
Установки нанесения покрытий
Специализированное
исследовательское
оборудование
исследовательское
оборудование
Системы визуального контроля