Компактная вакуумная шлюзовая установка для мелкосерийного производства сложных прецизионных оптических покрытий Aspira 200

  • Максимальный размер зоны нанесения - Ø200 мм
  • Максимальная высота подложки до 30 мм
  • Неравномерность осаждения материала вплоть до 0.1%
  • Одноволновой либо спектральный оптический контроль «на пропускание»
  • Шлюзовая загрузка
  • Полная автоматизация

Производитель Изовак

Узнайте цену

Особенности

Компактная вакуумная шлюзовая установка для мелкосерийного производства сложных прецизионных оптических покрытий

  • Максимальный размер зоны нанесения - Ø200 мм, максимальная высота подложки – до 30 мм
  • Неравномерность осаждения материала вплоть до 0.1%
  • Гибкость в выборе технологических устройств: ионный луч, магнетрон, электронный луч с ионным ассистированием, источник плазмы с ВЧ-нейтрализатором, ионная очистка перед стартом напыления
  • Одноволновой либо спектральный оптический контроль «на пропускание»
  • Шлюзовая загрузка
  • Полная автоматизация процесса напыления

Технические характеристики

Производительность / загрузка Подложкодержатель Ø200 мм
Откачные средства - Турбомолекулярный насос  (не менее 2200 л/сек);
- Криогенный насос (опционально);
- Сухой безмасляный насос  (не менее 35 м3/час)
Предельный вакуум Не хуже 2х10-4 Па (в чистой камере без оснастки)
Технологические устройства - Ионно-лучевой источник распыления кольцевого типа на  основе ускорителя с анодным слоем, с четырехпозиционным мишенным узлом и термокомпенсатором ионного заряда;
- Ионно-лучевой источник очистки «Луч-140» с термокомпенсатором ионного заряда;
- Магнетрон Ø 80 мм, DC либо RF режим;
- ЭЛИ EVM-8 производства «Ferrotec» с 12-позиционным тиглем и максимальной мощностью 6 kW;
- Ионный источник ассистирования «Стрелок-2» с термокомпенсатором;
- ВЧ-нейтрализатор с источником плазмы.
Неравномерность покрытий +/- 0.1%  - для планетарного механизма подложкодержателя;
+/- 0.3%  - для Ø 90 мм;
+/- 1.0%  - для Ø 140 мм;
+/- 3.0%  - для Ø 200 мм
Нагрев - 2-х зонный ТЭН-овый с 2-мя независимыми термопарами;
- Ламповый нагрев (нижнее расположение) при использовании планетарного механизма подложкодержателя;
- Максимальная температура нагрева - 350 °С (опционально до 500 °С)
Точность поддержания температуры нагрева ±2°С
Контроль покрытий - Одноволновой контроль InvisioM:
 380 - 1100 нм, 380 - 1700 нм, 380 - 2600 нм, 200 - 1100 нм (УФ-исполнение)
- Спектральный контроль InvisioS(только для стандартного подложкодержателя):
 380 - 740 нм, 380 - 1100 нм, 1000 - 1700 нм, 380 - 1700 нм
- Кварцевый контроль: Inficon 6-ти позиционный
Занимаемая площадь (с зоной обслуживания) 2400 х 3300 х 2300 мм (L x W х H).
Масса, не более 2000 кг
В каталог