Наносекундные лазерные системы высокой энергии на основе Nd:Glass

Высокоэнергетические наносекундные лазерные системы на основе неодимового стекла серии Nd:Glass

  • Различное исполнение задающего генератор
  • Опции контроля длительности импульса
  • Различные механизмы защиты и контроля

Производитель Ekspla

Описание

Компания EKSPLA предлагает широкий выбор лазерных систем высокой энергии на основе Nd:Glassактивной среды. Обычно Nd:Glass лазерные системы включают в свой состав задающий SLM генератор с диодной накачкой, предварительный усилитель, формирователь импульсов и основные усилители с ламповой накачкой.

Отличительные особенности

  • Опции исполнения входного каскада:
    • Задающий генератор с диодной накачкой (SLM или MM диод), отличающийся превосходной стабильностью и не требующий дополнительного обслуживания, на основе неодимового стекла (Nd:Glass) или Nd:YLF
    • Конфигурация «накачка с контролем временной формы/регенеративный усилитель», позволяющая применение сглаживающих технологий
    • Система коррекции волнового фронта на основе DFM
  • Опциональный SBS-компрессор (ВРМБ), гарантирующий высокий контраст импульсов и возможность контроля длительности импульсов
  • Предусилитель с ламповой/LD накачкой
  • Усилители мощности на неодимовом стекле с диаметром апертуры до 60 мм
  • Защита лазерной системы на основе изоляторов Фарадея, предотвращающих повреждение активной среды обратно отраженным излучением
  • Оптимизированный дизайн для вывода максимальной энергии в импульсе
  • Отдельно контролируемые PFN электрические цепи (схема формирования импульса) для каждой из ламп накачки
  • Диагностика и мониторинг статуса системы на основе микропроцессора
  • Программное обеспечение с пошаговым руководством для проверки производительности в определенных контрольных точках
  • Опциональная генерация высших гармоник (вторая, третья)

Производительность

Рис.1. Пространственное распределение выходных импульсов с энергией 33 Дж на длине волны 1053 нм (прямоугольная форма импульса)

Рис.2. Пример волнового фронта импульса на выходе системы (33 Дж, центральная длина волны)

Примеры пользовательских установок

Рис.3. Система усиления: 1 Дж, 1060 нм, 800 пс, спектральная ширина линии усиления ≈ 4 нм

Рис.4. Лазерная система: 12 Дж на 527 нм во время разработки

Рис.5. Система на Nd:Glass с энергией 30 Дж, отличающаяся произвольно формируемой временной формой импульса

Характеристики

Центральная длина волны 1053 – 1060 нм
Длительность импульса 500 пс – 20 нс
Максимальная энергия импульса 160 Дж (один канал)
Пространственный профиль пучка (ближнее поле) «Плоская вершина» на 80% поперечного сечения пучка (локальные изменения интенсивности: макс. ± 20% от значения средней интенсивности)
Частота следования импульсов В зависимости от конфигурации системы: от одного импульса в минуту до одного импульса в 20 минут для получения выходной энергии > 10 Дж
Стабильность энергии от импульса к импульсу СКО менее 2% на центральной длине волны в конфигурации с одним каналом
Спектральная ширина линии > 0.02 см-1 при 2 нс для SLM; > 1 см-1 при 4 нс для MM
Контраст предимпульса Лучше чем 1:105
Контраст поляризации > 100:1
Степень изоляции обратно отраженного излучения > 500:1 (контраст на изоляторе Фарадея)
Джиттер оптического импульса Типичное значение СКО > 0.2 нс (опционально СКО > 10 пс)
Срок службы лампы накачки 2∙105 вспышек (обычно > 3000 часов непрерывной работы при частоте 1 импульс в минуту)
Срок службы диода накачки Обычно > 10000 часов (типовое значение)

Пространственное распределение выходных импульсов с энергией  33 Дж на длине волны 1053 нм

Рис. 1. Пространственное распределение выходных импульсов с энергией 33 Дж на длине волны 1053 нм (прямоугольная форма пучка).

Пример волнового фронта импульса на выходе системы: 33 Дж, центральная длина волны

Рис. 2. Пример волнового фронта импульса на выходе системы: 33 Дж, центральная длина волны.

Примеры пользовательских установок

Система усиления: 1 Дж, 1060 нм, 800 пс, спектральная ширина линии усиления ≈ 4 нм

Рис. 3. Система усиления: 1 Дж, 1060 нм, 800 пс, спектральная ширина линии усиления ≈ 4 нм.

Лазерная система: 12 Дж на 527 нм во время разработки

Рис. 4. Лазерная система: 12 Дж на 527 нм во время разработки.

 Система с энергией 30 Дж, отличающаяся произвольно формируемой временной формой импульса

Рис. 5. Система на Nd:Glass с энергией 30 Дж, отличающаяся произвольно формируемой временной формой импульса.