Фотохимический реактор высокого давления

  • Сосуд из нержавеющей стали 316 L
  • Криотермостат
  • Клапан сброса избыточного давления
  • Объем сосуда от 150 до 1000 мл
  • Источник света мощностью от 500 до 1500 Вт

Производитель TOPTION

Узнайте цену

Описание

1. Основные компоненты: реакционный сосуд из нержавеющей стали, комплекты из ПТФЭ, кварцевое стекло высокого давления, фильтр и т. д.

2. Возможности индивидуальной настройки: циркулятор высокой и низкой температуры -120℃~300℃, устройство защиты от избыточного давления газа, стандартное сито Тейлора.

3. Данный тип фотохимического реактора высокого давления совмещен с источником света серии TOP-X.

Применение

  • Синтез органических и неорганических соединений: Получение сложных молекул, катализаторов, карбидов, боридов под действием УФ-излучения и давления.
  • Исследования и разработки: Изучение механизмов реакций, кинетики, квантовых выходов, свободных радикалов в контролируемых условиях.
  • Фармацевтическая и пищевая промышленность: Разработка и производство новых лекарственных препаратов, пищевых добавок.
  • Материаловедение: Создание наночастиц, цеолитов, полимеров, исследование их свойств.
  • Биотехнологии и экология: Фотодеградация загрязнителей, фотосинтез, биологические исследования.
  • Нефтехимия: Исследования процессов, протекающих в условиях высокого давления и облучения. 

Технические характеристики

Серия реакторов TPR-S

Модель TPR-S150 TPR-S300 TPR-S500 TPR-S1000
Диаметр излучения 80 мм 80 мм 80 мм 100 мм
Окно светового давления да
Основной материал реакционного сосуда Нержавеющая сталь 316L / (титан / сплав Hastelloy) (опционально)
Внутренняя емкость из ПТФЭ 150 мл 300 мл 500 мл 1000 мл
Внутренний слой из ПТФЭ (опционально) типа оболочки. 150 мл 300 мл 500 мл 1000 мл
Расчетное давление (опционально) 0,2 МПа / 0,5 МПа / 1 МПа

Серия реакторов TPR-HP 

Модель TPR-HP150 TPR-HP300 TPR-HP500 TPR-HP1000
Тип источника света Ксеноновая/УФ лампа
Мощность источника света 500 Вт 500 Вт 1000 Вт 1500 Вт
Срок службы источника света 1000 ч
Характеристики источника облучения Точечный источник
Диаметр облучения 80 мм 100 мм
Система охлаждения Наличие
Окно светового давления Наличие
Магнитная мешалка Наличие
Подъемная платформа Наличие
Материал сосуда Нержавеющая сталь 316L (титан/хастеллой по запросу)
Внутренняя емкость из ПТФЭ 150 мл 300 мл 500 мл 1000 мл
Внутренний слой из ПТФЭ (опционально) типа оболочки. 150 мл 300 мл 500 мл 1000 мл
В каталог