Устройство деления и переноса основного излучения лазера

Основное излучение лазера необходимо разделять на два канала и преобразовывать в излучение на других длинах волн. Перестраиваемое ИК излучение генерируется в пикосекундном OPG. Большая часть основного излучения лазера преобразовывается в излучение второй или третьей гармоники и используется для накачки OPG. Остаточное излучение пространственно фильтруется, задерживается и направляется в SFG спектрометр по VIS каналу. Чаще всего излучение преобразуется во вторую гармонику (532 нм), но в некоторых случаях может использоваться как основная гармоника (1064 нм), так и излучение, перестраиваемое в видимом диапазоне, когда используется второй OPG.

Устройство деления и переноса основного излучения лазера серии SFGH×00 обеспечивает выполнение всех вышеописанных процессов. В дополнение, данный модуль имеет оборудование, отслеживающее и управляющее значением входной энергии в VIS канале.

Длина волны VIS канала (если имеется опция удвоения длины волны) изменяется вручную. Этот модуль также оснащен всеми необходимыми разделителями и фильтрами, чтобы блокировать остаточное излучение и предотвратить его попадание на образец.

Производитель EKSPLA

Описание
Характеристики

Особенности

Основное излучение лазера необходимо разделять на два канала и преобразовывать в излучение на других длинах волн. Перестраиваемое ИК излучение генерируется в пикосекундном OPG. Большая часть основного излучения лазера преобразовывается в излучение второй или третьей гармоники и используется для накачки OPG. Остаточное излучение пространственно фильтруется, задерживается и направляется в SFG спектрометр по VIS каналу. Чаще всего излучение преобразуется во вторую гармонику (532 нм), но в некоторых случаях может использоваться как основная гармоника (1064 нм), так и излучение, перестраиваемое в видимом диапазоне, когда используется второй OPG.

Устройство деления и переноса основного излучения лазера серии SFGH×00 обеспечивает выполнение всех вышеописанных процессов. В дополнение, данный модуль имеет оборудование, отслеживающее и управляющее значением входной энергии в VIS канале.

Длина волны VIS канала (если имеется опция удвоения длины волны) изменяется вручную. Этот модуль также оснащен всеми необходимыми разделителями и фильтрами, чтобы блокировать остаточное излучение и предотвратить его попадание на образец.

Пример устройства деления и переноса основного излучения лазера