Пикосекундные УФ лазеры

УФ лазеры данной серии сочетают в себе преимущества коротковолнового излучения (355 нм) и сверхбыстрых пикосекундных импульсов (10 пс), обеспечивая высокоточную «холодную» обработку материалов. Данные лазеры отличаются высокой энергией УФ излучения, благодаря чему свет легко поглощается большинством материалов, что делает эти лазеры подходящим инструментом для обработки материалов с высокой отражательной способностью или прозрачных материалов. Кроме того, низкое тепловое воздействие пикосекундных импульсов позволяет проводить обработку на микронном уровне практически без теплового рассеивания и оплавления, а высокое качество пучка позволяет получать сфокусированное пятно (до микронного уровня), подходящее для сверхточной обработки.

• Выходная мощность до 40 Вт при типовом сроке наработки > 15000 ч
• УФ-излучение на 355 нм эффективно поглощается большинством материалов (особенно полимерами, стеклом, полупроводниками и т.д.), что позволяет проводить сверхточную обработку на субмикронном уровне и преодолевать ограничения точности других лазеров
• Зона термического воздействия практически незначительна, а степень повреждения во время обработки минимальна, что позволяет сохранить исходные свойства материала
• При качестве пучка с M² < 1.2 достигается высокоточная резка, обеспечивающая качество и точность кромок среза
• Поддерживает управление по RS232, GATE и TRIG
• Модульная конструкция, надежная структура, простота обслуживания

Типовое качество пучка

Типовой профиль пучка УФ лазеров высокой мощности

Типовое значение реального СКО стабильности мощности: 0.1689% (> 5 ч)

• Бытовая электроника (резка гибких печатных плат (FPC), сверление стекол)
• Полупроводники (резка кремниевых пластин, ремонт MicroLED изделий)
• Биомедицина (точная резка сосудистых стентов)
• Научные исследования (изготовление фотонных устройств)