Устройство для нанесения тонких пленок методом Ленгмюра-Блоджетт или методом горизонтального осаждения LT-202
- Два барьера
- Объём жидкости: 2000 - 2100 см2
- Углубление для погружения: глубина до 75 мм, диаметр 60 мм
- Возможность чередования различных мономолекулярных слоев
- Ход механизма погружения: 85 мм (вертикальное положение блока может дополнительно регулироваться)
Производитель Микротестмашины
Описание
Характеристики
Назначение
- Нанесение мономолекулярных пленок на поверхность твердых образцов (подложек) по методике Ленгмюра-Блоджетт (ЛБ) или методом горизонтального осаждения* (ГО)
- Формирование полимолекулярных тонких пленок с использованием соответствующей послойной методики
- Формирование на твердой поверхности моно- и мультимолекулярных композиционных покрытий
- Изменение свойств поверхности (степени гидрофильности, оптических, электрических и др.)
- Проведение фундаментальных исследований при получении ультратонких пленок и их использовании в качестве изолирующих и защитных покрытий, элементов молекулярной электроники, в биологии для создания аналогов бислойных липидных мембран и т.д.
Методики
| Методика осаждения ЛБ-пленок X-типа |  |
| Методика осаждения ЛБ-пленок Y-типа |  |
| Методика осаждения ЛБ-пленок Z-типа |  |
| * Метод горизонтального осаждения тонких пленок (ГО) (слива жидкой среды) развивается учеными Института химии новых материалов НАН Беларуси (г. Минск) как альтернатива традиционной ЛБ-методике. (Статья) Метод обеспечивает модификацию поверхности высокооднородной мономолекулярной пленкой (см., например, эту работу). Метод горизонтального осаждения тонких пленок позволяет осуществлять перенос мономолекулярной пленки на различные поверхности одновременно из большого разнообразия ПАВ (как в твердом, так и в жидком состоянии) несмотря на структуру полярной головки. Процесс химического осаждения пленок характеризуется крайней простотой и высокой скоростью. Например, поверхность металлизированной силиконовой подложки (wafer) может быть полностью модифицирована методом ГО в течение 3—5 минут. |
 |
 |
|
 |
|
| Метод послойного осаждения реализуется с использованием дополнительной оснастки в комплекте ЛБ-ванны LT-202. |  |
| Метод осаждения мономолекулярной пленки на ленточный носитель (непрерывное осаждение на гибкую подложку) реализуется с использованием дополнительной оснастки в комплекте ЛБ-ванны LT-202. |  |
Комплектация
| Код | Наименование | Кол-во |
| LT-202-010 | Ванна с базовой оснасткой в комплекте (Фторопластовый зажим, оснастка для нанесения пленки методом горизонтального осаждения, фторопластовые вставки для уменьшения объема жидкой среды, рубашка для жидкостного термостатирования, оснастка для водоструйного насоса) | 1 |
| LT-202-020 | Механизм погружения/подъема | 1 |
| LT-202-030 | Датчик поверхностного натяжения | 2 |
| LT-202-040 | Блок электроники управления 1 | 1 |
| ДОПОЛНИТЕЛЬНАЯ ОСНАСТКА (ОПЦИИ) | ||
| LT-202-025 | Модуль послойной самоорганизации вещества из растворов с поворотной платформой для механизма погружения/подъема в комплекте (для реализации послойной методики осаждения) | 1 |
| DT-03 | Микродозатор для нанесения вещества на водную поверхность | 1 |
| LT-202-050 | Вращающийся барьер для переноса пленки вещества в рабочую зону | 1 |
| LT-202-060 | Навесной модуль перемотки ленточной подложки (носителя) с двумя направляющими в комплекте | 1 |
| ОПЦИОНАЛЬНО | ||
| LT-202-090 | Набор калибровочных ПАВ: стеариновая кислота, бегеновая кислота, ацетиловый спирт. | ask |
Примечание:
1 Базовый комплект включает также управляющее программное обеспечение (для Win32) и руководство по эксплуатации.
* Управляющий ПК в комплект поставки не включается
 |
 |
 |
| Механизм погружения/подъема на вращающейся платформе | Модуль послойной самоорганизации вещества из растворов (поворотный стол) | Микродозатор DT-03 |
 |
 |
| Навесной модуль перемотки ленты | Вращающийся барьер |
 |
 |
| Комплект двух направляющих | Оснастка для водоструйного насоса |
Программное обеспечение
Программное обеспечение управления и сбора данных устройства для нанесения пленок методом Ленгмюра-Блоджетт предназначено для среды Win32 и работает в операционых системах Windows 95/98/Me/NT/2000/XP/Vista.
Программа построена по модульному принципу (в соответствии с исполняемыми методиками) и предоставляет доступ ко всем предварительным настройкам и калибровке, необходимым для работы с ЛБ-ванной, а также управление системами (механизмами перемещения барьера и погружения/подъема образца) при нанесении пленок. Предусмотрена возможность управления с помощью пользовательских сценариев (скриптов).
Полученные данные сохраняются в файлах как специального формата, так и текстового, и могут затем обрабатываться, визуализироваться и анализироваться с помощью самой программы или внешних программ (например, SurfaceXplorer или Microsoft Excel).
Минимальные требования к управляющему персональному компьютеру (в комплект не включен): Celeron® 1.7 GHz, RAM 512 MB, HDD 160 GB, VRAM 64 MB, monitor 1024x768x32 bit, MS Windows® XP SP2, 1 free USB port.
Для осушения пленок дополнительно к ваннам удобно использовать УФ отвердители.
Технические характеристики
| Полная площадь свободной поверхности: | 800 см2 |
| Площадь свободной поверхности, ограниченная барьером: | 744 см2 |
| Изменяемая поверхность: | 560 см2 |
| Объём жидкости: | 2000 - 2100 см2 |
| Углубление для погружения: | глубина до 75 мм, диаметр 60 мм |
| Максимальный размер погружаемой подложки: | 70х55x4 мм (ВхШхТ) |
| Количество барьеров: | Два |
| Диапазон скоростей перемещения барьера: | - одностороннее сжатие – от 0,01 до 180 мм/мин - симметричное сжатие – от 0,02 до 360 мм/мин |
| Ход механизма погружения: | 85 мм (вертикальное положение блока может дополнительно регулироваться) |
| Диапазон скоростей механизма погружения: | 0.01–40 мм/мин, |
| Шаг изменения скорости механизма погружения: | 0.1 мм/мин, |
| Возможность чередования различных мономолекулярных слоев: | Есть |
| Диапазон задержки между стадиями нанесения слоев: | 0 – 100000 с |
| Датчик поверхностного натяжения: | Пластинка Вильгельми (вертикальное положение блока может дополнительно регулироваться) |
| Рабочий диапазон датчика поверхностного натяжения: | 0-80 мН/м (возможны дополнительно ступенчатая и плавная регулировки диапазона) |
| Чувствительность датчика поверхностного натяжения: | 0.01 мН/м |
| Количество датчиков поверхностного натяжения: | Два |
| Модуль послойной самоорганизации вещества из растворов: | - количество емкостей – 23 (диаметр отв. 42 мм) - количество циклов нанесения – неограниченно - скорость подачи емкостей – 2,2 об/мин |
| Дозатор для нанесения вещества на водную поверхность: | - объем вещества – 1 мл - диапазон перемещения исполнительного штока – 0-40 мм. |
| Габариты: | Ванна с установленной оснасткой - 800x300x520 мм (ш-г-в); Блок управления - 185x240x105 мм (ш-г-в); Масса 21 кг. |
| Напряжение питания: | 220 В 50 Гц |
| Потребляемая мощность: | не более 100 Вт |
| Дополнительная оснастка: | - Фторопластовый зажим для крепления подложки на кронштейне механизма погружения. - Оснастка для нанесения пленки методом горизонтального осаждения (слива жидкой среды)*. - Вращающийся барьер для переноса пленки вещества в рабочую зону - Модуль перемотки пленочной подложки (носителя) с двумя направляющими - Дозатор для нанесения вещества на водную поверхность - Фторопластовые вставки для уменьшения объема жидкой среды. - Рубашка для жидкостного термостатирования субфазы в диапазоне температур 0°С...60°C - Фторопластовая оснастка для водоструйного насоса (для очистки поверхности жидкости) |
* Отдельные компоненты комплекса LT-202 разработаны в кооперации с Институтом химии новых материалов НАН Беларуси (г. Минск) и Институтом тепло- и массообмена им. А. В. Лыкова НАН Беларуси (г. Минск).
Похожее оборудованиеВ каталог
- Нанесение тонких пленок на стекле, металле, полупроводниках и других твердых материалах.
- Скорость вращения 100 – 10000 об/мин.
- Ускорение 40 - 5000 об/мин/сек
- Камера 8" - 10'" (в зависимости от модели).
- Вакуумный держатель подложек.
- Возможность продувки рабочей камеры инертным газом.
- Опции управления с ПК, обогрев, УФ осушители.
