Вакуумная установка для нанесения покрытий методом электронно-лучевого или термического испарения,  магнетронного распыления Elato 600

Вакуумная установка для нанесения покрытий методом электронно-лучевого или термического испарения, магнетронного распыления Elato 600

  • Возможность использования различных технологических устройств и подложкодержателей
  • Конфигурируется как для исследований, так для пилотного, мелкосерийного производства
  • Оборудование идеально подходит для наненсения драгоценных металлов
  • Возможность встраивания в чистую комнату
  • Наличие шлюза (опция)

Производитель IZOVAC

Описание

Вакуумное технологическое оборудование (ВТО) типа Elato (Элато) применяется для нанесения покрытий методом электронно-лучевого или термического испарения,  магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой на различные типы подложек.

Применение:

  • Напыление тонких плёнок для научно-исследовательских и опытно-конструкторских разработок
  • Мелкосерийное производство

Elato является зарегистрированной компанией Изовак торговой маркой

Вакуумное технологическое оборудование (ВТО) типа Elato

Вакуумное технологическое оборудование (ВТО) типа Elato

Особенности

  • Возможность использования различных технологических устройств и подложкодержателей
  • Возможность встраивания в чистую комнату
  • Наличие шлюза (опция)

Характеристики

Технические характеристики
Камера 600 мм
Производительность / загрузка
Откачные средства ВТО оснащено безмасляным форвакуумным насосом для предварительной откачки и системой высоковакуумной откачки с использованием турбомолекулярных насосов.
Предельное остаточное давление в чистой камере без оснастки,  не выше, Па 1 х10-5
Контроль покрытий Система кварцевого контроля предназначена для измерения физической толщины наносимых пленок во время распыления, автоматического управления и поддержания заданной скорости нанесения материала.   Система оптического контроля (опция) Система контроля по времени (опция)
Подложкодержатель Планетарного типа
Нагрев ИК, ТЭН, максимальная температура нагрева подложек – 400 °С
Технологические устройства Электронно-лучевой источник, резистивный испаритель, Ионный источник (возможная опция), магнетрон (возможная опция)
Требования к ресурсам
Вода Дистиллированная
Сжатый воздух Осушенный, без масла, 6-8 бар
Электроэнергия Напряжение – 380/220 В ±10%, частота - 50 Гц. ±2%
Аргон Давление – 0,1±0,01 МПа, Качество –  по ГОСТ 10157-79, чистота 99,99%, Расход - не более 0.2 л/мин
Кислород Давление – 0,1±0,01 МПа,  Качество – по ГОСТ 5583-78, чистота 99,7%, Расход - не более 0.2 л/мин
Занимаемая площадь 1573х2000х1996
Масса, кг 1200
Другие приборы раздела «Установки магнетронного распыления»Все приборы раздела
  • Возможность использования различных технологических устройств и подложкодержателей
  • Конфигурируется как для исследований, так для пилотного, мелкосерийного производства
  • Оборудование идеально подходит для наненсения драгоценных металлов
  • Возможность встраивания в чистую комнату
  • Наличие шлюза (опция)
  • Максимальный размер h130 x d235 мм
  • Оборудование разработано для обеспечения времени цикла 50-100с
  • Два DC магнетрона
  • Маленькая площадь, легкость работы, гибкость
  • Быстрый цикл нанесения
  • Синхронизация работы с конвейером
  • Исключение задержки между операциями операциями основной покраски(грунтовки), металлизации и завершающего напыления
  • Использование стандартных держателей заказчика
  • Двустороннее нанесение
  • Предварительная ионно-лучевая очистка
  • Нагрев подложек до 400 °С
  • Одновременная обработка 65 подложек
  • Размер подложек 60х48 мм
  • Криопанель и турбомолекулярный насос
  • Замкнутая система водяного охлаждения