Спектральный эллипсометр для измерения толщины тонких пленок

Спектральный эллипсометр (спектроэллипсометр) Elli-SE

  • Для исследования характеристик всех типов материалов: диэлектриков, полупроводников, органики и многих других
  • Измеряемые константы: толщина пленки, n, k через λ
  • Производительность: 10~15 с на точку (зависит от типа пленки)
  • Доп. опции

Производитель Ellipso Technology

Описание

Спектральная эллипсометрия (SE) является отраслевым стандартом, который позволяет одновременно измерять толщину и оптические константы тонких пленок одновременно, а также используется для определения характеристик различных материалов (например, диэлектриков, полупроводников, органических веществ и т.д.), включая просветляющие покрытия, OLED дисплеи и полимерные пленки.

Отличительные особенности

  • Простота и высокая скорость измерений
  • Высокая воспроизводимость анализа
  • Бесконтактный неразрушающий метод анализа
  • Возможность измерения многослойных материалов
  • Опции 2D- и 3D-картирования поверхности

Области применения

  • Определение толщины тонких пленок диэлектриков, полупроводников, полимеров
  • Измерение коэффициента затухания
  • Анализ сверхтонких и сверхтолстых пленок
  • Измерение толщины подложек: Si, GaAs, Al, стекло, Al2O3, PC, PET и др.
  • Измеряемые материалы

Полупроводники: Si, Ge, ONO, ZnO, PR, поликристаллический-Si, GaN, GaAs, Si3N4

Дисплеи: ITO, PR, MgO, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, SiO2 , ONO

Диэлектрики: SiO2 , TiO2 , Ta2O5 , ITO, AIN, ZrO2 , Si3N4 , Ga2O3, влажное окисление

Полимеры: красители, NPB, MNA, PVA, PET, TAC, PR

Химия: органические пленки (OLED), тонкие пленки Ленгмюра-Блоджетт

Солнечные элементы: SiN, a-Si, поликристаллический Si, SiO2, Al2O3

Опции и аксессуары

  1. Система автоматического картирования (Ø150мм, Ø200мм, Ø300мм)
  2. Опции расширения рабочего диапазона: UV1: 240 – 105 нм; UV2: 193 – 1050 нм; IR1: 900 – 1700 нм; IR2: 900 – 2200 нм
  3. Опции уменьшения диаметра измерительного пятна: 100 мкм, 50 мкм, 25 мкм
  4. Система автоматического выравнивания поверхности измеряемого образца
  5. Система автоматического выставления углов падения излучения

Сервис анализа образцов

Компания Ellipso Technology предлагает аналитические услуги для анализа Ваших образцов

Компания Ellipso Technology предоставляет своим клиентам решение, включающее такие данные, как толщина, показатель преломления, коэффициент затухания и плотность тонкопленочных материалов, а также, другие возможные свойства, которые могут быть исследованы оптическим методом. Точность технологии и точность анализа Ellipso Technology пользуются доверием множества компаний и исследовательских институтов, а также учебных заведений.

Основываясь на знаниях и опыте, накопленных в ходе более чем 2000 запросов, полученных из различных областей за более чем десять лет, Ellipso Technology также предоставляет услуги по консультации клиентов, которые ищут решения вопросов, возникающих в процессе создания тонких пленок.

Небольшой список наших основных клиентов (локальных и зарубежных)

Компании Samsung Electronics, Samsung SDI, Samsung Electro-Mechanics, Samsung Corning, Samsung Advanced Institute of Technology, KCC, LG Electronics, LG Chemical, LG Siltron, Saehan Media, Orion Electric, SKC, Taehan Sugar, DongWoo Fine-Chem, Kolon, KC Tech, Ness Display, Jusung Engineering
Исследовательские центры

Корейский научно-исследовательский институт электротехнологии, Корейский институт машиностроения, Корейский научно-исследовательский институт стандартизации, Корейский научно-исследовательский институт электроники и телекоммуникаций, Корейский институт фундаментальных наук
Образовательные учреждения Kyung Hee University, Seoul National University, Yonsei University, POSTECH, KAIST, Korea University, Sogang University, Ulsan University, Sungkyunkwan University, Hanyang University, Konkuk University, GIST, Chungju National University, Pusan National University, Ajou University, Inha University
Зарубежные компании HORIBA, Ltd. Miwa Opto, (Япония)
Tohoku University (Япония)
ASAHI GLASS (Япония)
Ecole Polytechnique (Франция)
ANWELL (Китай)
INER (Institute of Nuclear Energy Research) (Тайвань)
National Taiwan University (Тайвань)

Стоимость услуги по измерению зависит от градации тестовых образцов для анализа:

  • Единичный образец (подложка, пластина, стекло, т.п.)
  • Несколько одинаковых образцов (например, 50 нм, 100 нм)
  • Неизвестный образец с многослойной структурой
  • PET пленки и новые материалы

В связи с тем, что для обработки запроса на точные измерения различных материалов должны работать самые опытные инженеры, номинальное количество образцов, которые мы можем обработать, составляет 5 образцов за один рабочий день. В некоторых случаях для измерения образца требуется всего 2-3 часа, так как на поверхности образцов после различных условий технологического процесса изготовления получаются самые разнообразные результаты.

Мы надеемся, что Вы понимаете данную ситуацию, а компания Ellipso Technology сделает все возможное, чтобы предоставить более точные и быстрые услуги в самый короткий срок.

Характеристики

Измеряемые параметры Толщина пленки, показатель преломления (n), коэффициент затухания (k)
Диапазон толщин От 0.1 нм до 10 мкм (зависит от типа пленки)
Рабочий спектральный диапазон 380 – 1050 нм
Опции: UV1: 240 – 105 нм; UV2: 193 – 1050 нм;
IR1: 900 – 1700 нм; IR2: 900 – 2200 нм
Скорость анализа 10 сек/точка (нормальный режим); 1-3 сек/точка (быстрый режим) (зависит от типа пленки)
Диаметр измерительного пятна 1.5 мм
Опции: 100 мкм, 50 мкм, 25 мкм
Угол падения излучения 45° – 90°, шаг 5° (ручное управление)
Количество анализируемых слоев До 10 слоев (зависит от типа пленки)
Воспроизводимость (3σ) ± 0.03 нм на 10 измерений
Дисперсионные уравнения для постанализа Коши; Лоренца; Тауца-Лоренца (ТЛ); квантово-механическое (КМ); Друде-ТЛ; Друде-КМ, др.
Программные функции Библиотека материалов, создание пользовательских моделей
Похожее оборудованиеВ каталог
  • Для надежного, быстрого и точного измерения толщин пленок
  • Измеряет толщину пленки, n, k через λ, отражательную способность
  • Производительность: 0.5 с на точку
  • Повторяемость ± 1Å при измерении 10 раз
  • Анализ сильных, слабых и нулевых фазовых пленок
  • Определяет оптические оси, параметры Rin и Rth, оси затухания поляризационных пленок
  • Производительность: < 25 с на точку
  • Для высокоточных измерений толщин пленок
  • Измеряемые константы: отражательная способность, толщина пленки, n, k через λ 
  • Производительность: < 1 с на точку (зависит от типа пленки)
  • Энергия импульса до 10 мдж
  • Длительность импульсов < 2 нс
  • Частота следования импульсов до 50 Гц
  • Встроенный генератор синхроимпульса для запуска внешнего оборудования
  • Нанесение тонких пленок на стекле, металле, полупроводниках и других твердых материалах.
  • Скорость вращения 100 – 10000 об/мин.
  • Ускорение 40 - 5000 об/мин/сек
  • Камера 8" - 10'" (в зависимости от модели).
  • Вакуумный держатель подложек.
  • Возможность продувки рабочей камеры инертным газом.
  • Опции управления с ПК, обогрев, УФ осушители.