Спектральный рефлектометр Elli-RP

Улучшенный спектральный рефлектометр Elli-RPx

  • Для надежного, быстрого и точного измерения толщин пленок
  • Измеряет толщину пленки, n, k через λ, отражательную способность
  • Производительность: 0.5 с на точку
  • Повторяемость ± 1Å при измерении 10 раз
  • Уникальные передовые технологии в проведении быстрого преобразования Фурье (БПФ) для быстрого и точного измерения/анализа тонких пленок

Производитель Ellipso Technology

Описание

Система для измерения толщины и отражательной способности

Спектральная рефлектометрия (SR) является надежным, быстрым и точным методом для анализа толщины пленки и оценки ее отражательной способности. Elli-RPx обладает уникальной передовой технологией анализа m-FFT для точного и быстрого измерения тонких пленок.

Система для измерения толщины и отражательной способности Система для измерения толщины и отражательной способности Система для измерения толщины и отражательной способности

Отличительные особенности

  • Револьверная головка с объективами
  • Простота и высокая скорость измерений
  • Высокая воспроизводимость анализа
  • Бесконтактный неразрушающий метод анализа
  • Возможность измерения многослойных материалов

Области применения

  • Определение толщины тонких пленок диэлектриков, полупроводников, полимеров
  • Измеряемые материалы

Полупроводники: Si, Ge, ONO, ZnO, PR, BLT, поликристаллический-Si, GaN, GaAs

Дисплеи: ITO, PR, MgO, Alq3, CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS

Диэлектрики: SiO2, TiO2, Ta2O5, ITO, AIN, ZrO2, Si3N4, Ga2O3, влажное окисление

Полимеры: красители, NPB, MNA, PVA, PET, TAC, PR

Химия: органические пленки (OLED), тонкие пленки Ленгмюра-Блоджетт

Солнечные элементы: SiN, a-Si, поликристаллический Si, SiO2, Al2O3

Оптические покрытия: просветляющие, фильтрующие, упрочняющие

Опции и аксессуары

  1. Система автоматического картирования (Ø150мм, Ø200мм, Ø300мм)
  2. Опции расширения рабочего диапазона: UV1: 220 – 850 нм; UV2: 193 – 850 нм; IR1: 850 – 1700 нм; IR2: 850 – 2100 нм
  3. Измерение толстых пленок до 300 мкм
  4. Увеличенное рабочее расстояние до 1000 мм

Сервис анализа образцов

Компания Ellipso Technology предлагает аналитические услуги для анализа Ваших образцов

Компания Ellipso Technology предоставляет своим клиентам решение, включающее такие данные, как толщина, показатель преломления, коэффициент затухания и плотность тонкопленочных материалов, а также, другие возможные свойства, которые могут быть исследованы оптическим методом. Точность технологии и точность анализа Ellipso Technology пользуются доверием множества компаний и исследовательских институтов, а также учебных заведений.

Основываясь на знаниях и опыте, накопленных в ходе более чем 2000 запросов, полученных из различных областей за более чем десять лет, Ellipso Technology также предоставляет услуги по консультации клиентов, которые ищут решения вопросов, возникающих в процессе создания тонких пленок.

Небольшой список наших основных клиентов (локальных и зарубежных)

Компании Samsung Electronics, Samsung SDI, Samsung Electro-Mechanics, Samsung Corning, Samsung Advanced Institute of Technology, KCC, LG Electronics, LG Chemical, LG Siltron, Saehan Media, Orion Electric, SKC, Taehan Sugar, DongWoo Fine-Chem, Kolon, KC Tech, Ness Display, Jusung Engineering
Исследовательские центры

Корейский научно-исследовательский институт электротехнологии, Корейский институт машиностроения, Корейский научно-исследовательский институт стандартизации, Корейский научно-исследовательский институт электроники и телекоммуникаций, Корейский институт фундаментальных наук
Образовательные учреждения Kyung Hee University, Seoul National University, Yonsei University, POSTECH, KAIST, Korea University, Sogang University, Ulsan University, Sungkyunkwan University, Hanyang University, Konkuk University, GIST, Chungju National University, Pusan National University, Ajou University, Inha University
Зарубежные компании HORIBA, Ltd. Miwa Opto, (Япония)
Tohoku University (Япония)
ASAHI GLASS (Япония)
Ecole Polytechnique (Франция)
ANWELL (Китай)
INER (Institute of Nuclear Energy Research) (Тайвань)
National Taiwan University (Тайвань)

Стоимость услуги по измерению зависит от градации тестовых образцов для анализа:

  • Единичный образец (подложка, пластина, стекло, т.п.)
  • Несколько одинаковых образцов (например, 50 нм, 100 нм)
  • Неизвестный образец с многослойной структурой
  • PET пленки и новые материалы

В связи с тем, что для обработки запроса на точные измерения различных материалов должны работать самые опытные инженеры, номинальное количество образцов, которые мы можем обработать, составляет 5 образцов за один рабочий день. В некоторых случаях для измерения образца требуется всего 2-3 часа, так как на поверхности образцов после различных условий технологического процесса изготовления получаются самые разнообразные результаты.

Мы надеемся, что Вы понимаете данную ситуацию, а компания Ellipso Technology сделает все возможное, чтобы предоставить более точные и быстрые услуги в самый короткий срок.

Характеристики

Измеряемые параметры Толщина пленки, отражательная способность
Диапазон толщин От 1 нм до 20 мкм (зависит от типа пленки)
Рабочий спектральный диапазон 450 – 850 нм
Опции: UV1: 220 – 850 нм; UV2: 193 – 850 нм; IR1: 850– 1700 нм; IR2: 850 – 2100 нм
Скорость анализа 1 сек/точка (зависит от типа пленки)
Диаметр измерительного пятна 1 мм
Угол падения излучения 90° (нормальное падение)
Количество анализируемых слоев До 5 слоев (зависит от типа пленки)
Воспроизводимость (3σ) ± 0.05 нм на 10 измерений
Рабочее расстояние 120 мм (возможность кастомизации)
Макс. размер образца Ø150 мм (возможность кастомизации)
Похожее оборудованиеВ каталог
  • Для исследования характеристик всех типов материалов: диэлектриков, полупроводников, органики и многих других
  • Измеряемые константы: толщина пленки, n, k через λ
  • Производительность 10~15 с на точку(зависит от типа пленки)
  • Для надежного, быстрого и точного измерения толщин пленок
  • Измеряет толщину пленки, n, k через λ, отражательную способность
  • Производительность: 0.5 с на точку
  • Повторяемость ± 1Å при измерении 10 раз
  • Анализ сильных, слабых и нулевых фазовых пленок
  • Определяет оптические оси, параметры Rin и Rth, оси затухания поляризационных пленок
  • Производительность: < 25 с на точку
  • Неразрушающий оптический 3D-контроль с высоким разрешением
  • Получение конфокального изображения в реальном времени
  • Одновременная конфокальная микроскопия и микроскопия белого света
  • Автоматический поиск усиления для тонкой фокусировки
  • Различное оптическое увеличение для наблюдаемой области
  • Нанесение тонких пленок на стекле, металле, полупроводниках и других твердых материалах.
  • Скорость вращения 100 – 10000 об/мин.
  • Ускорение 40 - 5000 об/мин/сек
  • Камера 8" - 10'" (в зависимости от модели).
  • Вакуумный держатель подложек.
  • Возможность продувки рабочей камеры инертным газом.
  • Опции управления с ПК, обогрев, УФ осушители.