Компактная вакуумная шлюзовая установка для мелкосерийного производства сложных прецизионных оптических покрытий Aspira 200
- Максимальный размер зоны нанесения - Ø200 мм
- Максимальная высота подложки до 30 мм
- Неравномерность осаждения материала вплоть до 0.1%
- Одноволновой либо спектральный оптический контроль «на пропускание»
- Шлюзовая загрузка
- Полная автоматизация
Производитель Изовак
Описание
Характеристики
Особенности
Компактная вакуумная шлюзовая установка для мелкосерийного производства сложных прецизионных оптических покрытий
- Максимальный размер зоны нанесения - Ø200 мм, максимальная высота подложки – до 30 мм
- Неравномерность осаждения материала вплоть до 0.1%
- Гибкость в выборе технологических устройств: ионный луч, магнетрон, электронный луч с ионным ассистированием, источник плазмы с ВЧ-нейтрализатором, ионная очистка перед стартом напыления
- Одноволновой либо спектральный оптический контроль «на пропускание»
- Шлюзовая загрузка
- Полная автоматизация процесса напыления
Технические характеристики
| Производительность / загрузка | Подложкодержатель Ø200 мм |
| Откачные средства | - Турбомолекулярный насос (не менее 2200 л/сек); - Криогенный насос (опционально); - Сухой безмасляный насос (не менее 35 м3/час) |
| Предельный вакуум | Не хуже 2х10-4 Па (в чистой камере без оснастки) |
| Технологические устройства | - Ионно-лучевой источник распыления кольцевого типа на основе ускорителя с анодным слоем, с четырехпозиционным мишенным узлом и термокомпенсатором ионного заряда; - Ионно-лучевой источник очистки «Луч-140» с термокомпенсатором ионного заряда; - Магнетрон Ø 80 мм, DC либо RF режим; - ЭЛИ EVM-8 производства «Ferrotec» с 12-позиционным тиглем и максимальной мощностью 6 kW; - Ионный источник ассистирования «Стрелок-2» с термокомпенсатором; - ВЧ-нейтрализатор с источником плазмы. |
| Неравномерность покрытий | +/- 0.1% - для планетарного механизма подложкодержателя; +/- 0.3% - для Ø 90 мм; +/- 1.0% - для Ø 140 мм; +/- 3.0% - для Ø 200 мм |
| Нагрев | - 2-х зонный ТЭН-овый с 2-мя независимыми термопарами; - Ламповый нагрев (нижнее расположение) при использовании планетарного механизма подложкодержателя; - Максимальная температура нагрева - 350 °С (опционально до 500 °С) |
| Точность поддержания температуры нагрева | ±2°С |
| Контроль покрытий | - Одноволновой контроль InvisioM: 380 - 1100 нм, 380 - 1700 нм, 380 - 2600 нм, 200 - 1100 нм (УФ-исполнение) - Спектральный контроль InvisioS(только для стандартного подложкодержателя): 380 - 740 нм, 380 - 1100 нм, 1000 - 1700 нм, 380 - 1700 нм - Кварцевый контроль: Inficon 6-ти позиционный |
| Занимаемая площадь (с зоной обслуживания) | 2400 х 3300 х 2300 мм (L x W х H). |
| Масса, не более | 2000 кг |
Другие приборы раздела «Ионно-лучевое напыление»Все приборы раздела
