Вакуумная напылительная установка для покрытий с низким рассеиванием и высокой лучевой стойкостью LIDIZ

Вакуумная напылительная установка для покрытий с низким рассеиванием и высокой лучевой стойкостью LIDIZ

  • Нанесение прецизионных оптических покрытий для лазерного применения
  • Подложкодержатель Ø320 мм
  • Равномерность покрытий ±0.5%
  • Диапазон оптического контроля 350-1050 нм
  • Разрешающая способность 1 нм

Производитель Изовак

Особенности

Вакуумная напылительная установка LIDIZ предназначена для нанесения прецизионных оптических покрытий для лазерного применения.

Осаждение материала происходит способом ионно-лучевого распыления. Загрузка/выгрузка подложкодержателя осуществляется через шлюзовую камеру. 

Подложкодержатель представляет собой диск диаметром 320 мм.  Равномерность покрытий в зоне подложкодержателя от от D=200 мм до D= 285 мм составляет ±0.5%. Эффективная площадь нанесения с учетом свидетелей составляет 375 см2 .

Контроль толщины напыляемой пленки – спектральный оптический по прозрачному свидетелю. Диапазон оптического контроля 350-1050 нм. Разрешающая способность 1 нм. Работа оптического контроля основана на спектральном широкополосном измерении пропускания свидетеля.

Система управления обеспечивает проведение технологического процесса в ручном или автоматическом режимах.

Другие приборы раздела «Ионно-лучевое напыление»Все приборы раздела
  • Нанесение герметизирующих слоев на основе Si3N4 и SiO2
  • Нанесение прозрачных проводящих покрытий
  • 4-х позиционный узел сменных мишеней
  • Шлюзовая камера с высоковакуумным роботом-загрузчиком
  • Размер подложек 200x200 мм и 370x470 мм
  • Высоковакуумный затвор между камер
  • Шлюзовая камера с системой вращения
  • «Сухой» механический насос
  • Откачка камер в автоматическом режиме
  • Нанесение покрытий на  германиевые и кремниевые детали
  • Размер обрабатываемой подложки 370x420 мм
  • Оптический контроль толщины покрытия
  • 2 вакуумных камеры
  • Шлюзовая загрузка
  • Макс. размер зоны нанесения Ø200 мм
  • Макс. высота подложки до 30 мм
  • Неравномерность осаждения материала вплоть до 0.1%
  • Оптический контроль «на пропускание»
  • Шлюзовая загрузка
  • Полная автоматизация
  • До 6-ти материалов мишеней
  • Комбинирование ионно-лучевого и магнетронного распыления
  • Ионно-лучевая очистка
  • Шлюзовая загрузка
  • Встроенный оптический контроль по детали
  • Зона напыления 150 мм