Система измерения фазовых состояний тонких пленок Elli-Ret

Система измерения фазы (фазовых пленок) Elli-Ret

  • Предназначена для анализа сильных, слабых и нулевых фазовых пленок
  • Определяет оптические оси, параметры Rin и Rth, оси затухания поляризационных пленок
  • Производительность: < 25 с на точку
  • Обладает мощным программным и аппаратным обеспечением для проведения быстрых и точных измерений

Производитель Ellipso Technology

Структура

  • Источник света: галогеновая лампа, коллимационная система, разъем оптического волокна SMA 
  • Длина волны  550 нм 
  • Модуль анализатора: одиночный кристалл поляризатора с высокоточным вращательным механизмом
  • Модуль измерителя фазы: высокоточный вращательный механизм
  • моторизированное линейное перемещение и управляющая система
  • Ахроматическая полимерная четверть-волновая пластинка 
  • Модуль анализатора: одиночный кристалл поляризатора с высокоточным
  • Оптический кодер
  • Крепление образца: механизм моторизированного вертикального и горизонтального вращения, контроллер моторизированного независимого вращения, платформа крепления образца

Применение

  • Поляризационные/LCD фазовые пленки
  • Оптические оси (пропускание, быстрое, медленное)
  • Двулучепреломление (одноосное, двухосное), фаза
  • Притирка (или фотонастройка) направления  или угол притирки (фотовыравнивание)

Опции

  • Спектроскопическая система: спектральный диапазон 400 нм ~ 800 нм
  • Близ нулевая фазовая система: ультрамалая анизотропия фото-настроенного PI (Δnd~0.005 нм)

Технические характеристики

  • Измеряемые константы: фазы (Rin, Rth), оптические оси, (nx, ny, nz), угол β 
  • Диапазон толщин: 10 нм – 50 мкм (зависит от типа пленки)
  • Производительность: < 25 с на точку
  • Повторяемость: <0.005 нм (Rin)
Похожее оборудованиеВ каталог
  • Неразрушающий оптический 3D-контроль с высоким разрешением
  • Получение конфокального изображения в реальном времени
  • Одновременная конфокальная микроскопия и микроскопия белого света
  • Автоматический поиск усиления для тонкой фокусировки
  • Различное оптическое увеличение для наблюдаемой области
  • Для исследования характеристик всех типов материалов: диэлектриков, полупроводников, органики и многих других
  • Измеряемые константы: толщина пленки, n, k через λ
  • Производительность 10~15 с на точку(зависит от типа пленки)
  • Для надежного, быстрого и точного измерения толщин пленок
  • Измеряет толщину пленки, n, k через λ, отражательную способность
  • Производительность: 0.5 с на точку
  • Повторяемость ± 1Å при измерении 10 раз
  • Для применений в области биологии и медицины
  • Адаптация под коммерческий микроскоп любого типа
  • Выбор до 4-х возбуждающих лазеров
  • Диапазон регистрации: 400 - 750 нм или ближний ИК
  • Модульный дизайн с возможностью различной автоматизации